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半導體化學品半導體制造在很大程度上是一種與化學有關的工藝過程，高達20%工藝步驟是清洗和晶圓表面的處理： 我們習慣將硅片制造中使用的化學材料稱為工藝用化學品，有不同種類的化學形態（液態和氣態）并且要嚴格控制純度。這些工藝用半導體化學品主要作用如下：
液態高純試劑，其等級根據純度分為UP-S、UP、EL三個等級，其中EL又劃分為： 電子級1級（EL-Ⅰ）其金屬雜質含量為100--1000 PPb，相當SEMI C1 C2標準; 電子級2級（EL-Ⅱ）其金屬雜質含量為10--100 PPb,，相當SEMI C7標準; 電子級3級（EL-Ⅲ）其金屬雜質含量為1--10 PPb，相當SEMI C7標準; 電子級4級（EL-Ⅳ）其金屬雜質含量為0.1--1PPb，相當SEMI C8標準; 上一篇色譜級試劑概述下一篇濕電子化學品概述及分類 |
